台积电副共同营运长张晓强近日在公开场合透露，公司目前没有采购阿斯麦最新High-NA EUV光刻机的计划。这一决定主要基于设备成本过高，单台售价超过3.5亿欧元，折合人民币近28亿元，远超行业现有设备价格水平。
张晓强坦言，新一代光刻机"价格极其昂贵"，而台积电现有的EUV设备仍能满足当前生产与研发需求，能够充分发挥其价值。这款被视为支撑1.4nm及以下先进制程的核心装备，虽然分辨率和制程能力显著优于上一代，但成本也同步大幅攀升，价格接近普通EUV设备的1.8倍。
超高定价的原因在于其独家光学组件、复杂光源系统以及漫长的调试周期。全球范围内仅有阿斯麦能够供应这款设备，进一步推高了终端售价。尽管如此，台积电并未完全放弃这项技术，此前已采购少量设备用于研发，但明确表示不会用于量产。
为了降低对新设备的依赖，台积电正在通过工艺优化提升竞争力。公司近期公布了A13与N2U两项新工艺，分别计划于2029年和2028年投产。这些新工艺旨在不依赖新一代光刻机的情况下，提升芯片能效、缩小芯片面积，同时兼顾成本与性能。
作为阿斯麦的最大客户，台积电的暂缓采购决定将对后者产生显著影响。阿斯麦原本计划在2027至2028年大规模量产High-NA EUV光刻机，并设定了2030年的营收目标，但如今面临客户观望的挑战。当前，台积电面临较大的资本开支压力，资金优先投向了3nm产能扩张、2nm研发以及产能布局等关键领域。
